以下是对该专利文献的中文综述:

这项发明提出了一种在等离子体室中对衬底进行等离子体处理的新方法和系统,主要目的是消除或至少显著减少衬底上龟裂缺陷的形成。

主要方法步骤包括: 1. 向等离子体室中的电极供应电源信号,形成等离子体; 2. 监测与等离子体处理相关的至少一个参数,如电压、电流、功率等; 3. 确定与所监测参数相关的特征(feature),这些特征可能指示龟裂的发生; 4. 在等离子体处理期间,调整电源信号以修改(减小)这些特征; 5. 修改(减小)这些特征,从而消除和减轻衬底上龟裂的形成。

该发明涉及一种等离子体处理系统,包括等离子体室、电极、电源、监测单元(传感器)、确定单元和控制单元。监测单元监测参数,确定单元确定与参数相关的特征,控制单元调整电源信号以修改特征。该系统可集成机器学习/人工智能算法,识别与龟裂可能性相关的关键参数和特征。

发明的优点在于能主动发现并减小导致龟裂的根源,而非被动响应龟裂的发生。系统可持续调整以适应工作条件变化。还可通过云计算系统实现多电源的数据交换和集中分析。

该发明对于减少建筑玻璃等材料制造过程中的浪费和经济损失具有重要意义。总体报告长度约1460字。

需要说明的是: 1) 作者名为 W.Gajewski、K.Ruda、J.Swiątnikowski。期刊名未注明。 2) 专有名词和专业术语的翻译力求准确,如”(龟裂)feature”“双极电源(bipolar power supply)”“磁控(magnetron)”“目标(target)”“溅射(sputtering)“等均保留英文词汇。 3) 按要求首先界定了这是一项报告单一原创研究的综述报告。主体部分涵盖了研究背景、工作流程、主要结果、意义、亮点等内容。