基于文档的内容,这是一篇专利说明文件,描述了一种用于处理等离子体工艺期间产生的电弧的装置和方法。根据专利说明文件要求,生成如下中文报告:

这项发明提出了一种电弧处理装置,用于处理等离子体工艺中发生的电弧。该装置包括:

a)电弧检测装置,用于检测等离子体腔室内存在的电弧; b)电弧能量确定装置,用于在电弧存在期间求出提供给等离子体腔室的电弧能量值; c)中断时间决定装置,根据求出的电弧能量值来决定中断时间。

该发明的核心是,对于每个电弧过程,通过求出提供给等离子体腔室的电弧能量值,来决定针对该电弧所需的个性化中断时间。这种做法可实现更高的沉积速率,提高产量。

电弧处理装置还可包括输入端,用于接收与等离子体工艺相关的信号。还可包括数据传输装置,用于将电弧检测信号从电弧检测装置传送到电源控制装置。

该发明还提出了一种相应的电弧处理方法,包括:a)检测等离子体腔室内存在的电弧;b)求出电弧期间提供给等离子体腔室的电弧能量值;c)根据求出的电弧能量值决定中断时间。

该方法决定中断时间时,可以基于求出的电弧能量值和预定系数。该预定系数可固定,也可根据已发生电弧的数量动态确定。

实际中断时间可通过将预定附加值加到决定的中断时间上来获得。附加值的加入是为了保证电弧在重新供电前实际熄灭。

该发明还公开了包括上述电弧处理装置和电源控制装置的电源装置,以及包括上述电源装置和电弧处理装置的等离子体系统。

该发明的优点在于,通过对每个电弧个性化决定合适的中断时间,可避免一次性设置过长的中断时间,从而提高了沉积速率和产量。

文档中详细介绍了电弧处理装置各部件的结构和作用,以及中断时间的具体计算过程和参数选择依据等,对于理解和实施该发明提供了详尽的技术细节。