パルスレーザー堆積法による室温でのα-CH3NH3PbI3ハライドペロブスカイトのエピタキシー

学術的背景 金属ハライドペロブスカイト(Metal Halide Perovskites, MHPs)は、その独特な光電特性により、光電分野で注目を集めています。近年、これらの材料は発光ダイオード、レーザー、光検出器、スピントロニクスなどの分野での応用も広く研究されています。しかし、溶液法(solution-processed)で作製されたペロブスカイト薄膜においては大きな進展が見られる一方で、気相法(vapor-phase deposition)によるペロブスカイト薄膜のエピタキシャル成長(epitaxial growth)に関する研究はまだ少ないです。エピタキシャル成長は単結晶薄膜を成長させる技術であり、材料の基本的な物理特性を理解し、高性能デバイスを開発する上で重要です。本研究では、パ...