高迁移率n型二硫化钼晶体管中的分数量子霍尔相

高迁移率 n 型二硫化钼晶体管中分数量子霍尔相研究 背景与研究动机 在低温下,基于半导体过渡金属二硫属化物(Transition Metal Dichalcogenides, TMDs)的晶体管理论上可提供高载流子迁移率、强自旋轨道耦合和内在的强电子相互作用。这使其成为探索多体电子相互作用和量子态的理想平台。然而,由于在极低温下实现与 TMD 材料的鲁棒欧姆接触(Ohmic Contact)的挑战,长期以来,尚无法全面研究费米水平接近能带边缘情况下电子关联的特性,特别是在部分填充 Landau 能级(Landau Levels, LLs)下的分数量子霍尔(Fractional Quantum Hall, FQH)现象。 本文作者提出了一种“窗口接触技术”,成功实现了从毫开尔文到室温范围内的 ...