超薄アモルファス窒化炭素とシリコンの共有結合ヘテロ構造による高性能垂直フォトダイオード

炭素窒化物(Carbon Nitride, CN)は、2次元n型半導体材料として、その優れた光触媒活性と安定性から、光駆動エネルギー変換や環境応用において大きな可能性を示しています。しかし、CNが光触媒分野で優れた性能を示す一方で、光電子デバイス、特にシリコン(Si)ベースの光電子デバイスへの応用は制限されてきました。その主な理由は、高品質で均一かつ加工可能なCN薄膜を大規模に合成する方法が不足していることです。既存の合成方法、例えばナノシート分散コーティング、液-固界面合成、高温アニーリングなどは、ある程度CN薄膜の作成を実現していますが、ウェハーレベルの均一性、表面粗さ、およびシリコンとの界面結合強度において依然として課題を抱えています。これらの問題により、CNとシリコンの異種界面に多く...

WO₂I₂/ポリオアミノチオフェンポーラス球状ナノコンポジットの製造とフォトダイオードへの応用

WO₂I₂/ポリオルトアミノチオフェン多孔性球状ナノコンポジットの製造とその光検出器への応用 背景紹介 近年、光検出器は照明や宇宙技術などの分野で広く応用されているため、大きな注目を集めています。しかし、従来の金属酸化物ベースの光検出器は感度が低く、分光応答範囲が限られているという問題を抱えています。例えば、ZnO/Cu₂O や Se/TiO₂ などの材料に関する研究では、その光応答は主に紫外線領域に集中し、光応答度(R)は通常 0.001 mA/W を下回っています。さらに、P3HT や PBbTPD:tri-PC61BM などのポリマー材料は優れた導電性と低コストの利点があるものの、その光応答度は依然として約 0.01 mA/W と低いです。したがって、高感度、広い分光応答範囲、そして低...