2D材料集積フォトニクス:産業製造と商業化に向けて
学術的背景 情報時代の到来に伴い、集積回路(Integrated Circuits, ICs)は技術進歩を推進する中核的な力となっています。しかし、従来の集積フォトニクスプラットフォーム(シリコン、窒化シリコンなど)は材料特性に多くの制限があります。例えば、シリコンの間接バンドギャップはレーザーアプリケーションでの使用を制限し、シリコンの近赤外波長域での強い二光子吸収は非線形光学アプリケーションでの性能を制限しています。これらの制限を克服するため、研究者たちは優れた光学特性を持つ二次元材料(2D Materials)をフォトニックチップに統合することを探求し始めました。グラフェン(Graphene)、遷移金属ダイカルコゲナイド(Transition Metal Dichalcogenides...