Transistors tridimensionnels avec des semi-conducteurs bidimensionnels pour la mise à l'échelle future des CMOS

Rapport sur un article scientifique : Transistors tridimensionnels à base de semi-conducteurs bidimensionnels pour l’avenir du CMOS Contexte et objectif de la recherche Dans un contexte où la technologie CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) à base de silicium approche ses limites physiques, cette étude se concentre sur l’exploration des m...

Transistors à effet de champ de type p haute performance utilisant le dopage par substitution et le contrôle de l'épaisseur des matériaux bidimensionnels

Transistors à effet de champ p-types haute performance : dopage substitutionnel et contrôle d’épaisseur des matériaux bidimensionnels Contexte académique Avec le développement continu de la technologie des semi-conducteurs, les transistors à effet de champ (FETs) en silicium approchent leurs limites physiques en termes de performances. Pour surpass...

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Intégration monolithique 3D basée sur la croissance de semi-conducteurs 2D monocristallins

Intégration monolithique 3D basée sur la croissance de semi-conducteurs 2D monocristallins Contexte académique Avec le développement rapide de l’industrie électronique moderne, la technologie d’intégration tridimensionnelle (3D) est devenue un moyen essentiel pour améliorer les performances des dispositifs électroniques. Les circuits intégrés bidim...